• 연구메이저 온라인 카지노용 플라즈마 미세가공(반응성 이온 에칭: RIE) 장비

• 기존 가공이 어려웠던 기능성 소재(비반도체 소재) 가공에 특화된 딥에칭 장비
• 라인업에는 장치 연구 메이저 온라인 카지노 및 프로토타입 제작부터 소규모 생산까지 모든 작업을 처리할 수 있는 "R&D용 표준형 TEP-01x"와 데스크탑 크기의 저가 모델 "R&D용 데스크탑형 TEP-Xd"가 포함됩니다

• 진공 사양 최소 Fab 웨이퍼 이송(로드 록) 장치

• 이송 컨테이너에서 웨이퍼를 꺼내 외부 공기 및 미립자와 완전히 차단된 상태에서 진공 장비 반입 및 반출이 가능합니다
• w2675 x d114 x h378(mm)의 공간에 전면 챔버, 웨이퍼 이송 로봇, 진공 펌프, 진공 게이지, 컨트롤러가 내장된 컴팩트한 디자인

최소 팹
Φ125mm 웨이퍼 1장을 생산 단위로 사용하여 극소 규모의 반도체 제조 공장을 형성하고 MEMS와 같은 반도체 칩 및 마이크로 디바이스를 소량 제조하는 것을 목표로 하는 혁신적인 다품종 소량 반도체 제조 시스템

• 연구메이저 온라인 카지노용 다중하전 이온빔 발생기

• 거울 전자석과 영구 자석의 조합을 이용한 소형 ECR 이온 소스
• 자기장을 사용하여 하전 입자를 매우 효율적으로 가두어 다중 하전 이온을 생성할 수 있음
• 다양한 주파수 대역(245GHz/4~6GHz)의 마이크로파를 중첩하여 저압 영역에서 고밀도 플라즈마를 생성하는 것이 가능합니다
• 다중 하전 이온빔 생성

• 이온빔을 이용한 재료분석 및 미세가공
• 금속-탄소 하이브리드 재료(메탈로풀러렌) 연구 및 메이저 온라인 카지노

• 저항 가열 고진공 증발 장비

• 깨끗한 고진공 진공 배기가 가능한 터보 분자 펌프 장착(최고 압력: 1×10e-4Pa 이하)
• 3점 전환 증발원으로 다층 증착 가능
• 진공챔버는 유리벨자 또는 SUS 챔버 선택 가능
• SUS 챔버는 작업성이 뛰어난 해치형 전면 도어를 사용합니다
• 기판 가열, 기판 회전, EB 건 등과 같은 다양한 메커니즘을 용도에 따라 맞춤 설정할 수 있습니다

• 다양한 금속박막의 증착

• 인쇄회로기판용 플라즈마 표면개질 장비

• 다상 AC 플라즈마를 이용한 독창적인 기술이 적용된 "열 탈출형" 플라즈마 표면 개질 장치
• 자기장을 이용한 플라즈마 가열 억제 방식으로 열손상 없는 표면 개질이 가능함
• 좁은 공간에서도 균일한 플라즈마 발생으로 고속 처리가 가능합니다(처리 용량: 60장/h)
• 보드의 양면을 동시에 처리할 수 있습니다

• 저항가열 금속나노입자 제조장비

• 활성액면 연속진공증착법을 이용한 금속나노입자 제조장치
• 다양한 유형의 금속 나노입자를 생산할 수 있습니다
• 단일 나노 크기의 금속 나노입자 생산 가능

• 대기 중에 비평형 플라즈마를 생성하는 장치

• 특수한 동력원을 사용하면 많은 활성종을 생성할 수 있습니다

• 표면 수정 등

• 탁도와 형광을 이용한 유전자 측정장치

• 하나의 장치로 탁도와 형광도를 연속적으로 측정할 수 있습니다

• 탁도/형광 검출 시약의 연구, 메이저 온라인 카지노 및 사용

• 탁도를 이용한 유전자 측정장치

• PC 연결 없이도 작동 및 결과 확인 가능

• 탁도 검출 시약의 연구, 메이저 온라인 카지노 및 사용